References:
1. М.К. Бахадырханов Диссертационная работа на соискание ученой степени доктора физико-математических наук. Ленинград. 1982. с 479.
2. Н.Ф. Зикриллаев, Ғ.А. Кушиев, Б.А. Абдурахманов, Ў.Х. Қурбонова, Қ.У. Вахобов. “GexSi1x бирикмалари мавжуд кремний материали олишнинг истиқболлари”// журнал ДАН РУз, 2022. №5. с 21-26.
3. А.Г. Захаров, Ю.Б. Какурин, Н.А. Филипенко. Моделирование процессов массопереноса в неоднородных твердых телах с учетом электродиффузии // Естественные науки. 2009. № 2. С. 35-37.
4. А.Г. Варехов. Электродиффузия зондирующих ионов к поверхности частиц биоколлоидов // Научное приборостроение. 2017. Т. 27, № 4. С. 24–33.
5. К.В. Шалимова. Физика полупроводников. Москва энергоатомиздат 1985.
6. Б.И. Болтакс. Диффузия и точечные дефекты в полупроводниках. «Наука», Ленинград – 1972.
7. Isakov, B., Hamrokulov, S., Abdurakhmonov, S. and Abdurakhmonov, H., 2023. DOPED SILICON WITH GALLIUM AND ANTIMUM IMPURITY ATOMS. Science and innovation, 2(A5), pp.255-261. https://doi.org/10.5281/zenodo.7979273
8. Бахадырханов, М.К., Кенжаев, З.Т., Турекеев, Х.С., Исаков, Б.О. and Усмонов, А.А., 2021. Геттерирующие свойства никеля в кремниевых фотоэлементах. Журнал технической физики, 91(11), pp.1685-1688. DOI: 10.21883/JTF.2021.11.51529.99-21
9. Isakov, B.O., Rakhmonov, B.R. and Subkhonberdiev, S.N., 2022. Influence of Impurity Atoms of Gallium and Antimony on the Concentration of Optically Active Oxygen in the Silicon Lattice. https://journals.researchparks.org/index.php/IJOT/article/view/3146/3066
10. Абдурахманов Б. А., Исамов С. Б., Кушиев Г. А. АВТОМАТИЗИРОВАННАЯ УСТАНОВКА ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПАРАМЕТРОВ ПОЛУПРОВОДНИКОВ МЕТОДОМ ВАН ДЕР ПАУ //ПРИБОРЫ №. 2. – С. 14-18.
11. Kushiev G. ELECTROPHYSICAL PROPERTIES OF BINARY SILICON-GERMANIUM COMPOUNDS IN SILICON //Science and innovation. – 2023. – Т. 2. – №. A6. – С. 326-330.
12. Zikrillaev, N. F., Koveshnikov, S. V., Isamov, S. B., Abdurahmonov, B. A., & Kushiev, G. A. (2022). SPECTRAL DEPENDENCE OF THE PHOTOCONDUCTIVITY OF Gе x Si1–x TYPE GRADED-GAP STRUCTURES OBTAINED BY DIFFUSION TECHNOLOGY. Semiconductors, 56(1), 29-31.
13. М.К. Бахадырханов, Х.М. Илиев, Г.Х. Мавлонов, К.С. Аюпов, С.Б. Исамов, С.А. Тачилин. Кремний с магнитными нанокластерами атомов марганца — новый класс фотомагнитных материалов. Журнал технической физики, 2019, том 89, вып. 3. DOI: 10.21883/JTF.2019.03.47179.184-18
14. Hamrokulov, S., Kushiev, G., Isakov, B. and Umarkhodjaeva, Z., 2023. DIGITAL MICROSCOPE ANALYSIS OF CHEMICALLY CLEANED SILICON SURFACE. Science and innovation, 2(A5), pp.138-142. https://doi.org/10.5281/zenodo.7952162